5月25日，《芯片世界中的创新启蒙》工艺实训在文宣楼C栋403开展。本次实训由九游网站入口官网的陈孟瑜、谭颖玲和梁冬雪担任指导老师，旨在让学生们了解光刻工艺和物理气相沉积这两项重要的芯片制造技术。

实训开始前，陈孟瑜向同学们介绍了超净间的注意事项。她强调，超净间的清洁度对于芯片制造的成败至关重要，一丝一毫的尘埃都可能对芯片的性能产生巨大影响。同学们认真倾听，感受到了科学实验的严谨性。

在光刻实验室，谭颖玲和研究生助教为大家讲解了实验的基本流程，并演示了匀胶、前烘、曝光、显影等步骤。每一步操作都精准到位，让同学们直观感受光刻工艺。

紧接着，同学们走入磁控溅射实验室。梁冬雪和研究生助教向大家展示了磁控溅射PVD（物理气相沉积）的操作步骤，并解释了实验的基本原理。

老师们还带领同学参观了其他实验室，介绍了键合机、氧化扩散炉、台阶仪、快速退火炉、深硅刻蚀机、MPCVD等先进的实验设备。这些高精尖的设备让同学们对微电子领域的前沿技术有了深刻的认识，他们对未来的学习和研究充满了期待。

经过剥离、划片等步骤后，本次工艺实训的成品出炉，精美的厦大校徽展现了精湛的工艺水平和师生们的辛勤付出。

随着工艺实训的圆满结束，同学们收获颇丰，不仅学到了宝贵的专业知识，还亲身体验了微电子制造的整个流程。这次实训提升了同学们的实践能力和科学素养，为他们未来的职业发展奠定了坚实的基础。

文 | 黄积杰

图 | 黄积杰

排版 | 黄积杰